PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機介紹：
去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題，將直接影響后續工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件，可對工藝參數進行精確控制。它的工藝監測和數據采集軟件可實現嚴格的質量控制。該技術已經成功的應用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領域。
PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機特點：
1. 桌面型，普通實驗臺即可安置。操作簡便上手快、使用成本極低、易于維護。
2.適合于4~6寸硅片及相同面積去膠，可選配硅片專用托盤。
3.內置雙層氣浴電極，有效提高清洗效率。配有節流閥，防止真空泵油霧回流。可選配耐用電極，降低長時間使用后的腔體污染。
4.配置200W/13.56MHz等離子發生器。兼顧物理作用和化學作用。
5.具備前后吹掃功能，保證樣品處理潔凈度，可配置獨立吹掃氣路。
6.可選配電極間距可調，對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和表面改性。
PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機參數：
小型等離子去膠機應用：
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